الصين تنتج 5 آلات DUV سنوياً: فجوة 96% مع ASML وتحديات EUV تتراكم

مقدمة تحليلية

بدأت الصين في إنتاج منخفض الحجم لآلات الطباعة الحجرية DUV الغاطسة المطورة محلياً، حيث تستهدف خمسة أنظمة هذا العام، وحوالي 20 نظاماً في عام 2027. هذه الخطوة، التي أدت إلى مسح ما يقرب من 44 مليار دولار من القيمة السوقية لشركة ASML في يوليو، تعتمد على شركة Shanghai Aishengna Electronic Technology Group، وهي كيان حكومي تأسس في أغسطس 2023 برأسمال مسجل قدره 7 مليارات يوان (حوالي مليار دولار). استوعبت Aishengna فرق الهندسة من Yuliangsheng التابعة لهواوي وشركة SMEE الحكومية. الأنظمة الأولى مخصصة لـ SMIC و Hua Hong و CXMT هذا العام للتحقق من خطوط الإنتاج، وليس للإنتاج الضخم.

تشكل الآلات الخمس حوالي 3.8% من إجمالي 130 نظاماً غاطساً تنشرها ASML سنوياً، وهي الشركة التي تستحوذ على 98.7% من سوق الطباعة الغاطسة. الحقائق الأولية تؤكد وجود فجوة تقنية وهيكلية واسعة.

التحليل التقني

الأنظمة الصينية الجديدة تستهدف طباعة ميزات من فئة 28nm في تعرض واحد، وتصل إلى 7nm، ونظرياً 5nm، عبر تقنية multipatterning، وهو المسار نفسه الذي تستخدمه SMIC حالياً على أسطولها الحالي من آلات ASML. لم يتم الكشف عن أرقام الإنتاجية أو دقة الطباعة لهذه الآلات، في حين أن أدوات ASML الرائدة حالياً تصل إلى 330 رقاقة في الساعة ودقة طباعة 2.5nm. وتشير التقارير إلى أن SMIC تدير ماسحاً ضوئياً محلياً غاطساً، باسم Mount Everest، منذ سبتمبر من العام الماضي، طورته Yuliangsheng. قارنت صحيفة _فايننشال تايمز_ هذا الجهاز بـ ASML Twinscan NXT:1950i، وهو نظام دخل السوق عام 2008، مما يضع التصميم الصيني متأخراً بحوالي عقد ونصف عن الأدوات التي تبيعها ASML اليوم. لقد قامت Yuliangsheng، التي تأسست في شنغهاي عام 2022 برأسمال مليار يوان (حوالي 149 مليون دولار)، بتسليم ثلاث آلات طباعة حجرية للمصانع للاختبار بحلول أواخر العام الماضي، لكن هذا لم يتم تأكيده رسمياً.

تعتمد هذه الآلات بشكل كبير على مكونات حيوية مستوردة من اليابان، مما يحد من إنتاج عام 2026 عند حوالي خمس وحدات. لذا فإن هدف 20 آلة لعام 2027 يعتبر طموحاً ويتطلب قاعدة مكونات محلية لم تتأسس بعد، أو ضمان استمرار توفر الأجزاء المستوردة بعيداً عن أي جولة مستقبلية من قيود التصدير. أما فيما يخص الطباعة الحجرية بـ EUV، فقد وصف تحقيق لـ _رويترز_ في ديسمبر 2025 مشروعاً صينياً يُدعى "Manhattan Project" يعمل على نموذج أولي لمصدر ضوء EUV في مختبر شديد التأمين بشنجن، والذي اكتمل أوائل عام 2025. ينتج هذا النموذج فوتونات EUV لكنه لم يعرض أي رقاقة بعد. يشارك أكثر من 3,000 باحث في هذا البرنامج، مع تنسيق هواوي وتكامل الأنظمة من قبل SMEE.

تتتبع الصين مسارين لمصدر الضوء:

• يقود أحد الفريقين Lin Nan، أستاذ بجامعة Beihang وعمل في ASML بين عامي 2015 و2021، ويستخدم تصميم بلازما تنتجها ليزر الحالة الصلبة بكفاءة تحويل 3.42%، مقابل حوالي 5.5% المطلوبة تجارياً.
• يقود الفريق الآخر Zhao Yongpeng من معهد Harbin Institute of Technology ويعمل على بلازما التفريغ بمساعدة الليزر، وقد وصل إلى حوالي 100W من خرج EUV، بينما توفر مصادر ASML الإنتاجية حوالي 600W.

تهدف بكين إلى إنتاج رقائق من هذا الجهاز بحلول عام 2028، لكن مصادر _رويترز_ تشير إلى أن عام 2030 أكثر واقعية. هناك تقارير أخرى عن نموذج أولي معكوس الهندسة مبني حول مصدر ضوء Cymer معترض، لم ينتج هو الآخر شيئاً. وتظل رؤية جامعة Tsinghua لمفهوم SSMB القائم على المُسرّع، والذي يتطلب سنكروتروناً بحجم 100 إلى 150 متراً في محيطه، مشروعاً أكاديمياً.

السياق وتأثير السوق

تجاوزت المعدات المحلية 35% من مشتريات المصانع الصينية في عام 2025، متجاوزة هدف بكين البالغ 30% ومرتفعة من حوالي 10% قبل ثلاث سنوات. تجاوزت معدات الحفر والترسيب بالطبقات الرقيقة 40% من التوطين، ووصلت القياسات إلى 25%، بينما بلغت الطباعة الحجرية 18% فقط، معظمها في الأدوات القديمة وتطبيقات التعبئة والتغليف. من نهاية عام 2025، يُطلب من إضافات القدرة الجديدة للمصانع توفير ما لا يقل عن نصف معداتها محلياً، وهو تفويض يضمن لهذه الماسحات الجديدة قاعدة عملاء، بغض النظر عن مواصفاتها.

صعدت Naura Technology لتصبح خامس أكبر صانع لمعدات الرقائق في العالم بحلول مبيعات 2025، متجاوزة KLA، بعد ASML وApplied Materials وLam Research وTokyo Electron. بلغت إيرادات الشركة 27.14 مليار يوان صيني (4 مليارات دولار أمريكي) في الأرباع الثلاثة الأولى من عام 2025، مقابل 6.05 مليار يوان صيني (589 مليون دولار أمريكي) لعام 2020 بأكمله. تمتلك الشركة طلبيات متراكمة تمتد حتى عام 2027، وبدأت في تطوير أدوات الطباعة الحجرية للمرة الأولى. نمت إيرادات وأرباح AMEC الصافية بأكثر من 30% في عام 2025، بينما سجلت ACM Research المتخصصة في التنظيف 901.3 مليون دولار للسنة المالية 2025 وتوقعت ما يصل إلى 1.18 مليار دولار لعام 2026.

كشفت SiCarrier، الشركة في شنجن المرتبطة بهواوي، عن حوالي 30 أداة في معرض SEMICON China في مارس 2025، وشملت الحفر والترسيب والقياس والاختبار. قُدرت قيمتها بحوالي 65 مليار يوان صيني (9.63 مليار دولار أمريكي) بحلول سبتمبر 2025، مع أكثر من 10 مليارات يوان صيني (1.48 مليار دولار أمريكي) في الطلبيات، وقد أضافتها الولايات المتحدة إلى قائمة الكيانات في ديسمبر 2024. وقد وصف قادة الصناعة الصينيون، ومنهم المؤسس المشارك لـ SMIC، وانغ يانغ يوان، ورؤساء YMTC وNaura وشركة تصميم EDA Empyrean، في مارس، صناعة الأدوات الصينية بأنها "صغيرة ومجزأة وضعيفة"، ودعوا إلى دمج وطني. يبدو مشروع Aishengna، الذي دمج فرق Yuliangsheng وSMEE في كيان حكومي واحد، المنتج الأول لهذا الضغط. أنفقت الصين رقماً قياسياً قدره 49.5 مليار دولار على معدات مصانع الرقائق في عام 2024، وستظل أكبر مشترٍ حتى عام 2027، حتى بعد تراجع في عام 2025. يهدف قانون MATCH Act، الذي قُدّم في مجلسي النواب والشيوخ في أوائل أبريل، إلى حظر مبيعات وصيانة أدوات DUV الغاطسة لـ SMIC وHuawei وHua Hong وCXMT وYMTC. وقد بدأت المصانع الصينية في الاستعداد لهذا السيناريو باستخدام مهندسين من أطراف ثالثة وقطع غيار من السوق الرمادية لإعادة تدوير آلات ASML القديمة. تقلص تعرض ASML للصين بالفعل، حيث تمثل 20% من مبيعات الأنظمة مقارنة بـ 41% في 2024 و 33% في العام الماضي، على الرغم من رفع الشركة لتوقعات إيرادات العام بأكمله إلى 43 إلى 45 مليار يورو في يوليو. تتوقع Applied Materials خسارة تتراوح بين 600 و 710 ملايين دولار في إيراداتها من الصين هذا العام المالي.

رؤية Glitch4Techs

الجهود الصينية لتحقيق الاكتفاء الذاتي في أدوات تصنيع الرقائق لا تزال بعيدة عن تحقيق اختراق حقيقي، ولا تمثل منافساً مشروعاً في المدى المنظور. التحديات الجوهرية تتمثل في فجوة الأداء الهائلة والاعتماد المستمر على سلاسل الإمداد الخارجية. إن إنتاج خمس آلات DUV فقط سنوياً بواسطة Shanghai Aishengna، مع مواصفات متأخرة مقارنة بأدوات ASML التي دخلت السوق عام 2008، يمثل 3.8% فقط من إنتاج ASML السنوي البالغ 130 نظاماً. هذا الرقم يوضح أن قدرة الإنتاج الصينية رمزية في أفضل الأحوال.

أما فيما يخص الطباعة الحجرية بـ EUV، فإن النموذج الأولي لمصدر الضوء الذي اكتمل في أوائل عام 2025 لم يتمكن بعد من تعريض رقاقة واحدة، وكفاءة تحويله البالغة 3.42% بعيدة عن الـ 5.5% المطلوبة تجارياً، بينما يبلغ خرج طاقة EUV 100W فقط مقارنة بـ 600W من ASML. هذه الأرقام لا تدعم ادعاءات التقدم الجذري، بل تؤكد أن الصين لا تزال في مراحل تجريبية أولية مع تحديات تقنية وهيكلية عميقة.